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2次加硫って何?低分子量シロキサンって何?
2次加硫って何?

一般的には、ゴム成形プレスで加硫したシリコーンゴム成形品などを下記のようなBOX炉内に製品を投入して、200℃〜220℃の高温で1時間〜4時間の熱処理することを言います。

2次加硫・恒温槽・オーブン 2次加硫・恒温槽・オーブン
   
2次加硫・恒温槽・オーブン 2次加硫・恒温槽・オーブン

2次加硫工程はなぜ必要なのか?

様々な電気部品や一般製品に採用されているシリコーンゴム成形品ですが実は大きな欠点を持っているのです。

その欠点とは・・・低分子量シロキサンがゴム成分内に残留してしまうことです。

2次加硫の工程では、このゴム成分内に残留してしまう低分子量シロキサンを高温で長時間加熱処理することにより、揮発させゴム成分の中から除去をする工程なのです。


低分子量シロキサンって何?
 
-Me2SI-O-単位が環を巻いた環状シロキサンを指します。
-Me3SI-O-単位が3個からなる3量体をD3、4量体はD4となり、
10量体はD10となります。

これらは、シリコーンの原料であり、オイルや加硫ゴムなどのシリコーンゴム製品となった後にも微量に残ってしまったものです。(不純物ではありません)

この低分子量シロキサンは揮発性で、電気接点部付近又は直接接触する部分での使用などで除去が不十分であると電気接点障害を引き起こす原因となります。

シリコーンゴムは電気絶縁性に非常に優れており、耐熱・耐寒性が良く広い温度範囲でも、電気特性が変化しないのが特徴です。

そのシリコーンゴムの成分であるシロキサンの中で、揮発性が高い低分子量シロキサンが、ゴム成分の中に残留している量が多いと、リレーやコネクタなどの電気接点部のスパーク等によって絶縁物となり電気接点障害の原因の一つになると言われています。 2次加硫

2次加硫の効果

シリコーンゴム成形品を2次加硫することにより、低分子量シロキサンの残留量が減少しますが、それは、2次加硫の温度・時間・成形品の厚みで比例していきます。シリコーンメーカーが公表しているデータを参考例として、グラフで表示します。

国内大手シリコーンメーカーT社 汎用材(A50)
残留シロキサン量
 
最近の弱電メーカーの品質基準として、低分子量シロキサンの残留量も規格として明確にしており、その多くは、D4〜D10の量体の低分子量シロキサンの残留量の合計が300PPM以下となっているところがほとんどです。

 

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